2012年5月我公司開始研制雙面刷洗機。早期的濕法清洗不僅不能清除半導體晶片表面的亞微米粒子，而且對片子表面的破壞作用極為嚴重。而雙面刷洗機對清除亞微米粒子非常有效，而且不破壞硅片表面，清洗效果最好。本公司已在2012年12月成功研制出該設(shè)備并順利投入清洗市場。