硅料清洗機其實就是太陽能光伏硅片（單晶和多晶都適用）的一種清洗設備，那么他主要廣泛用于生產(chǎn)及半導體元器件生產(chǎn)中晶片的濕法化學工藝。該設備可有效去除晶片表面的有機物、顆粒、金屬雜質(zhì)、自然氧化層及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破壞晶片表面特性。可用于完成擴散前、光刻后、后及氧化前等工藝的清洗工作。例如：RCA清洗、SPM清洗、清洗、金屬離子及雜物去除清洗等。

硅料清洗機又分為全自動硅料清洗機和手動硅料清洗機

全自動硅料清洗機的特點：

（1）進口伺服驅(qū)動機構及機械手臂，清洗過程中無需人工操作。

（2）通過PLC實現(xiàn)控制，全部操作通過觸摸屏界面一次完成。

（3）可預先設制多條清洗工藝，可同時運行多條工藝。

（4）自動化程度高，適用于批量生產(chǎn)，確保清洗質(zhì)量的一致性。

（5）自動氮氣鼓泡裝置可有效提高產(chǎn)品質(zhì)量，縮短清洗時間。

（6）可選裝層流凈化系統(tǒng)及自動配酸裝置。

手動硅料清洗機特點：

（1）可根據(jù)不同的清洗工藝配置各種相應的清洗功能槽。功能槽包括：加熱酸缸、功能槽包括：加熱酸缸、HF腐蝕、BHF（HF恒溫緩沖腐蝕）、超聲清洗槽、恒溫水浴、QDR（快排沖水）、電爐等。

（2）清洗功能槽模塊化，各部分有獨立的控制單元，可隨意組合。

（3）關鍵件采用進口部件，提高設備的可靠性及使用壽命。

（4）采用進口耐腐蝕板材，防酸、防腐，有效避免酸液的侵蝕。

（5）控制系統(tǒng)的元器件具備防腐、防潮功能，確保安全的工作環(huán)境。

（6）結(jié)構緊湊，占地面積小，造型美觀、實用。

（7）操作符合人機工程原理，具有良好的操作界面，使用方便、靈活。

（8）閉式清洗，有效改善工作環(huán)境，保障操作人員安全。